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如何为CVD设备选型？
CVD是化学气相沉积的简称，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，理论上即：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。所以普通CVD实验设备则由三套及以上的设备组合而成即：高温炉（提供实验温度）+供气系统（提供多种气体混合）+真空系统（提供实验环境）。
化学气相沉积（CVD）设备的灵活度很高，客户可根据自己实验要求选择合适的产品来组合，或者直接选择CVD套装。
一．高温炉选择一般是管式炉：高温炉为CVD实验提供材料沉积所需要的温度
1、如何选择管式炉？查看管式炉产品。
二、供气系统选择：
供气系统即混气装置，它可以实现2种或者2种以上的气体或者蒸汽按照一定的比例来混合，然后通入高温炉中
本公司根据流量计的不同分为2类
1.气体流量计：
浮子流量计：气体通过普通的浮子流量计粗略的估计进气量。
质量流量计：气体通过D07质量流量计控制进气量。
2、气液混合流量计：
用于液体高温气化后导入CVD系统的设备，有建议版和控制版本两种可选。查看供气系统。
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