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磁控溅射设备在二溅射中增加一个平行于靶外表的关闭磁场，借助于靶外表上构成的正交电磁场，把二次电子捆绑在靶外表特定区域来增强电离功率，增加离子密度和能量，然后实现高速率溅射的进程。
磁控溅射设备能够有用的进步产品的质量，特别是使用在一些金属材质上的时候，其不只能够让其具有绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。
我们知道当高速电子对不锈钢、钛、镍、金、银、铜等贵稀金属炮击后，金属分子将向上面的聚脂膜溅射，再经过聚脂膜上面磁的效果，使被溅射的金属物均匀分布。所以，运用这种工艺，处理了染色-热蒸发工艺生产的窗膜透光低、高反光、隔热功能差、视觉含糊、易褪色、耐腐蚀性差等诸多缺点，不只能够制造各种纯金属化窗膜，并且由于没有增加任何颜料，所以它能够杜绝偏色、变色，做到不褪色，确保纯正的中性色，与任何车辆的颜色都能匹配，并确保不分层、不剥落不开裂。更重要的是，它在不同的光照度下，视觉颜色稳定不变，能够确保车内人员的视线清晰。
在目前的商场中磁控溅射体系设备适用于电子、机械、修建和其他领域的金属及介电涂层商场的很大一部分份额。该设备是对被加工的零件涂上借助等离子、经过特别靶标喷出的资料。目前,磁控溅射镀膜是在高技术领域中生产薄膜常见的方法。
磁控溅射设备的工作原理是指电子在电场E的效果下，在飞向基片进程中与氩原子发生磕碰，使其电离发生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场效果下加速飞向阴靶，并以高能量炮击靶外表，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上构成薄膜，而发生的二次电子会遭到电场和磁场效果，发生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨道近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线方式在靶外表做圆周运动，它们的运动途径不只很长，并且被捆绑在接近靶外表的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来炮击靶材，然后实现了高的沉积速率。
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