磁控溅射设备系统的首要用途

（1）各种功用性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功用的薄膜。 例如，在低温下堆积氮化硅抗反射膜以进步太阳能电池的光电转化功率。

（2）在装修范畴的使用，例如各种全反射膜和半通明膜，例如手机壳，鼠标等。

（3）作为微电子范畴的非热镀膜技能，首要用于化学气相堆积（CVD）或金属有机

（4）化学气相堆积（CVD）难以成长而且不适合用于资料的薄膜堆积，而且可以获得大面积的十分均匀的薄膜。

（5）在光学范畴：IF封闭场非平衡磁控溅射技能也已使用于光学薄膜（例如抗反射涂层），低辐射率玻璃和通明导电玻璃中。 特别地，通明导电玻璃现在广泛地用于平板显示设备，太阳能电池，微波和射频屏蔽设备和设备以及传感器中。

（6）在机械加工工业中，自引进以来，外表功用膜，超硬膜和自润滑膜的外表堆积技能得到了大的发展，可以有效进步外表硬度，复合耐性，耐磨性和高耐性。 温度化学稳定性。 功能，从而大大进步了涂层产品的使用寿命。

除了已广泛使用的上述范畴外，磁控溅射镀膜仪还在高温超导薄膜，铁电薄膜，巨磁阻薄膜，薄膜发光资料， 太阳能电池和记忆合金薄膜。

磁控溅射系统已被很多使用的范畴，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光资料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要效果。

（1）各种功用性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低温堆积氮化硅减反射膜，以进步太阳能电池的光电转化功率。

（2）装修范畴的使用，如各种全反射膜及半通明膜等，如手机外壳，鼠标等。

（3）在微电子范畴作为一种非热式镀膜技能，首要使用在化学气相堆积（CVD）或金属有机。

（4）化学气相堆积（CVD）成长困难及不适用的资料薄膜堆积，而且可以获得大面积十分均匀的薄膜。

（5）在光学范畴：中频闭合场非平衡磁控溅射技能也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和通明导电玻璃等方面得到使用。特别是通明导电玻璃现在广泛使用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽设备与器件、传感器等。

（6）在机械加工行业中，外表功用膜、超硬膜，自润滑薄膜的外表堆积技能自问世以来得到长足发展，能有效的进步外表硬度、复合耐性、耐磨损性和抗高温化学稳定功能，从而大幅度地进步涂层产品的使用寿命。

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