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磁控溅射设备包含很多品种。各有不同作业原理和应用目标。但有一共同点：利用磁场与电场交互效果，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后大电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场效果下撞向靶面然后溅射出靶材。
磁控溅射设备能够有用的提高产品的质量，特别是使用在一些金属原料上的时候，其不只能够让其具有绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。
在现在的商场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、修建和其他范畴的金属及介电涂层商场的很大一部分比例。该设备是对被加工的零件涂上凭借等离子、经过特别靶标喷出的资料。现在,磁控溅射镀膜是在高技术范畴中出产薄膜常见的方法。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控依照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴。
我们知道当高速电子对不锈钢、钛、镍、金、银、铜等贵稀金属炮击后，金属分子将向上面的聚脂膜溅射，再经过聚脂膜上面磁的效果，使被溅射的金属物均匀分布。所以，运用这种工艺，解决了染色-热蒸腾工艺出产的窗膜透光低、高反光、隔热功用差、视觉模糊、易褪色、耐腐蚀性差等许多缺点，不只能够制作各种纯金属化窗膜，并且由于没有添加任何颜料，所以它能够杜绝偏色、变色，做到不褪色，确保纯正的中性色，与任何车辆的色彩都能匹配，并确保不分层、不剥落不开裂。更重要的是，它在不同的光照度下，视觉色彩恒定不变，能够确保车内人员的视野清晰。
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