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CVD设备体系适用范畴：
CVD体系设备由堆积温度控件、堆积反应室、真空操控部件和气源操控备件等部分组成亦可根据用户需求规划出产，除了首要应用在碳纳米资料制备职业外，现在正在使用在许多职业，包含纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等范畴 。
CVD生长体系是使用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上产生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜资料制备体系。
化学气相堆积是一种化工技能，该技能首要是使用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的办法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机资料的新技能。化学气相淀积法现已广泛用于提纯物质、研发新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜资料。这些资料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，并且它们的物理功用可以通过气相掺杂的淀积过程操控。化学气相淀积已成为无机组成化学的一个新范畴。
CVD设备的应用
现代科学和技能需求使用很多功用各异的无机新资料，这些功用资料有必要是高纯的，或者是在高纯资料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂资料。但是，我们曩昔所熟悉的许多制备办法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满意这些要求，也难以确保得到高纯度的产品。因而，无机新资料的组成果成为现代资料科学中的首要课题。
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