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磁控溅射设备各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低温堆积氮化硅减反射膜，以进步太阳能电池的光电转化效率。装修范畴的使用，如各种全反射膜及半通明膜等，如手机外壳，鼠标等。 在微电子范畴作为一种非热式镀膜技能，首要使用在化学气相堆积（CVD）或金属有机化学气相堆积（CVD）成长困难及不适用的资料薄膜堆积，而且可以获得大面积十分均匀的薄膜在光学范畴：中频闭合场非平衡磁控溅射技能也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和通明导电玻璃等方面得到使用。
特别是通明导电玻璃广泛使用于平板显示器材、太阳能电池、微波与射频屏蔽设备与器材、传感器等在机械加工行业中，外表功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的外表堆积技能自面世以来得到长足发展，能有用的进步外表硬度、复合耐性、耐磨损性和抗高温化学稳定功能，从而大幅度地进步涂层产品的使用寿命。磁控溅射除上述已被许多使用的范畴，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光资料、太阳能电池、回忆合金薄膜研究方面发挥重要效果。
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子炮击靶外表，使被炮击出的粒子堆积在基片上的技能。通常，利用低压惰性气体辉光放电来发生入射离子。阴极靶由镀膜资料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压效果下发生辉光放电。电离出的氩离子炮击靶外表，使得靶原子溅起并堆积在基片上，形成薄膜。溅射办法许多，首要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称沟通射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
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