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磁控溅射设备溅射绝缘子似乎很容易，但实际操作却很困难。 主要问题是该反应不仅发生在零件的表面上，而且发生在阳极，真空腔的表面和目标源的表面上，这会导致灭火，目标源和表面起弧 工件。 德国莱比锡发明的双靶技术很好地解决了这个问题。 原理是一对目标源是彼此的阴极和阳极，因此阳极表面被氧化或氮化。
在450磁控溅射中，由于运动中的电子在磁场中受到洛伦兹力，因此它们的运动轨迹会弯曲甚至产生螺旋运动，并且它们的运动路径会变长，从而增加了与工作气体分子碰撞的次数并产生了等离子体 堆积密度的增加，使得磁控管溅射速率大大提高，并且可以在较低的溅射电压和气压下工作，从而减少了薄膜污染的趋势。在机械加工工业中，表面功能膜，超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自问世以来发展迅速，可以提高表面硬度，复合韧性，耐磨性和高温化学稳定性。 延长涂层产品的寿命。
相对准确的电磁场设计是对溅射过程中的电磁场进行模拟，而不是只对未工作时的磁控溅射设备进行电磁场模拟。电源的选择：“电源”的选择应根据不同的工艺过程确定，常见的有直流电源、中频电源、射频电源及能够实现多种供电模式的混合型电源等。材料的选择：对于射频电源来说，功率的载人和匹配是非常重要的问题。大功率射频电源的电极载入材料要求面电导率高且化学稳定性好，工业上常选用无氧铜作为电极材料。磁控靶内的材料可按磁导率的高低划分，磁靴为高磁导率材料，一般为工业纯铁。
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