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磁控溅射设备跟着当下我国对环保作业的日益看重，传统高耗费、重污染的电镀职业逐渐被推上风口浪尖。因为电镀职业的基础性，注定着它无法直接被撤消，所以怎样对电镀技能进行升级换代，成为许多研究人员需求思考的问题。以前的镀膜多采用电镀法和化学镀法，存在着厚度难以控制、膜层均匀性差、附着力差等问题，三废污染特别严重，在人们环保认识逐渐加强的今天，其打开已受到了多方面的限制。
磁控溅射系统对现代化的重要性而磁控镀膜系统对环境友好，无污染，耗材少，成膜均匀细密，与基体的结合力强。和传统的镀膜方法比较，磁控溅射镀膜设备具有许多的利益，如装修效果好，金属质感强，易于操作等。特别在非金属物件的应用上，有着传统电镀无法比拟的优势。磁控溅射系统的作业原理是电子在电场E的效果下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，并使它们电离发生Ar正离子和新电子。 Ar离子在电场的效果下加快到阴极靶，并以高能轰击靶外表，然后使靶资料溅射。
磁控溅射包括许多类型。 每个都有不同的作业原理和应用方针。 可是，它们有一个共同点：磁场和电场之间的相互效果导致电子在方针外表邻近回旋扭转，然后增加了电子撞击氩气发生离子的可能性。 发生的离子在电场的效果下撞击靶外表并溅射靶资料。磁控反响溅射绝缘子好像很容易，但实际操作却很困难。 主要问题是该反响不仅发生在零件的外表上，并且发生在阳极，真空腔的外表和方针源的外表上，这会导致灭火，方针源和外表起弧 工件。 德国莱比锡创造的双靶技能很好地处理了这个问题。 原理是一对方针源是彼此的阴极和阳极，因而阳极外表被氧化或氮化。
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