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磁控溅射原理：电子在电场的效果下加速飞向基片的过程中与氩原子产生碰撞，电离出很多的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的效果下加速轰击靶材，溅射出很多的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）堆积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响，被捆绑在接近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的效果下环绕靶面作圆周运动，该电子的运动途径很长。
（1）各种功用性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低温堆积氮化硅减反射膜，以进步太阳能电池的光电转化功率。
（2）装饰范畴的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3） 在微电子范畴作为一种非热式镀膜技能，首要应用在化学气相堆积（CVD）或金属有机
（4）化学气相堆积（CVD）生长困难及不适用的资料薄膜堆积，而且可以获得大面积十分均匀的薄膜。
（5） 在光学范畴：中频闭合场非平衡磁控溅射技能也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃广泛应用于平板显现器材、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器材、传感器等。
（6）在机械加工行业中，外表功用膜、超硬膜，自润滑薄膜的外表堆积技能自面世以来得到长足发展，能有用的进步外表硬度、复合耐性、耐磨损性和抗高温化学安稳性能，从而大幅度地进步涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被很多应用的范畴，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光资料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要效果。
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