多弧靶

技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。

目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和电弧源，使用时，必须逐个点燃每一个靶，关注每个弧源的运行情况，因而导致真空离子多弧镀膜机设备的弧靶系统复杂，造价高，操作繁琐。另外，圆形平面多弧靶还存在控弧磁场位形不合理、靶材刻蚀不均匀、弧斑运动不稳定、经常跑弧和熄弧等缺陷，影响工业化生产过程中的镀膜质量。