束源炉

在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀,蒸镀法的加热方式有电流加热、电子束加热、辐射加热等，当蒸发源达到蒸发温度后，会以分子、原子或团簇等自由程较大的状态出现，这些粒子遇到温度较低的基底时就会就会沉积形成薄膜，蒸镀法有纯度高洁净好的优点，常用于金属镀膜、非金属镀膜和有机物镀膜。

容纳并加热蒸发加热材料的设备是热蒸发源，束源炉是热蒸发源的一种，其包括坩埚和喷射口两部分构成，传统束源炉采用卧式蒸发的空间结构，大大降低了该技术在工业生产上的应用和推广，并且大多数束源炉在蒸发低温材料或是对温度比较敏感的材料时不能很好的进行控制。常见有单个喷嘴束源炉和多个喷嘴的卧式束源炉，单个喷嘴在衬底上沉积均匀性差；卧式束源炉不能在竖直方向上均匀镀膜，且低温蒸发时，响应时间长，温控效果差。