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CVD设备
磁控溅射设备的类型
2020-10-12
磁控溅射系统的工作原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，并使它们电离产生Ar正离子和新电子。Ar离子在电场的作用下加速到阴极靶，并以高能轰击靶表面，从而使靶材料溅射。磁控溅射设备厂家带您了解更多信息！磁
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磁控溅射设备的用途
2020-10-12
磁控溅射设备系统的主要用途（1）各种功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。例如，在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。（2）在装饰领域的应用，例如各种全反射膜和半透明膜，例如手机壳，鼠标等。（3）作为
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