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分类： CVD设备

真空退火炉设备一般用经历计算法确定功率定功率

2021-03-19

真空退火炉设备运用保护操作规程，建立真空炉工作记录和修补档案，统计工作累积工作时刻，加强真空炉日常保护，把握设备技能状态改变趋势，及早发现毛病损坏预兆，防止归于事端抢修性质的修理，并依据真空炉工作负荷和工作情况，提早有针对性地准备真空炉修补

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磁控溅射设备系统的首要用途

2021-03-18

磁控溅射设备系统的首要用途（1）各种功用性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功用的薄膜。例如，在低温下堆积氮化硅抗反射膜以进步太阳能电池的光电转化功率。（2）在装修范畴的使用，例如各种全反射膜和半通明膜，例如手机壳，鼠标等。（3）作为

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磁控溅射设备镀膜技能被广泛应用于哪些地方

2021-03-18

磁控溅射设备是在两溅射的基础上开发的。在靶资料的表面上建立与电场正交的磁场。它处理了低两层溅射堆积速率和低等离子体电离速率的一阶问题，这已成为目前的涂层。重要的行业办法之一。与其他涂层技能相比，磁控溅射具有以下特点：能够将多种资料制成

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磁控溅射设备体系的工作原理

2021-03-17

磁控溅射设备绝缘子好像很简单，但实际操作却很困难。主要问题是该反应不仅发生在零件的外表上，而且发生在阳，真空腔的外表和方针源的外表上，这会导致灭火，方针源和外表起弧工件。德国莱比锡创造的双靶技能很好地解决了这个问题。原理是一对方针源

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磁控溅射设备体系对现代化的重要性

2021-03-17

磁控溅射设备体系能够有用的前进产品的质量，特别是使用在一些金属质料上的时候，其不只能够让其具有绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。在现在的商场中磁控溅射体系设备适用于电子、机械、修建和其他范畴的金属及介电涂层商场的很大一部分比例。该设备

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真空退火炉设备炉盖可设有热风循环装置

2021-03-16

真空退火炉设备的结构特色：1、加热元件均布炉膛内，分布合理。2、炉盖可设有热风循环装置，可使炉罐内的气氛及温度均匀。3、可配真空泵抽气，添加换气速度，气氛更纯洁。4、有保护气体，经退火后产品无氧化，消除加工应力，提高铁心磁性能，降低铁损。5

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