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了解一下磁控溅射设备的工作原理
2022-05-06
了解一下磁控溅射设备的工作原理磁控溅射设备用磁控靶源溅射金属和合金很简单,点火和溅射很便利。这是由于靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可构成回路。但若溅射绝缘体(如陶瓷),则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容,这样在
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磁控溅射设备的实际操作很难
2022-05-06
磁控溅射设备的实际操作很难磁控溅射设备溅射绝缘子好像很容易,但实际操作却很困难。主要问题是该反响不只发生在零件的外表上,而且发生在阳,真空腔的外表和方针源的外表上,这会导致救活,方针源和外表起弧工件。德国莱比锡发明的双靶技术很好地处理
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磁控溅射系统有哪些种类?
2021-05-25
磁控溅射系统的工作原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞,并使它们电离产生Ar正离子和新电子。Ar离子在电场的作用下加速到阴极靶,并以高能轰击靶表面,从而使靶材料溅射。磁控溅射镀膜仪厂家带您了解更多信息!
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