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温控电源
磁控溅射介绍和用途
2022-11-08
磁控溅射是物理气相堆积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多资料,且具有设备简略、易于控制、镀膜面积大和附着力强等长处。上世纪70时代发展起来的磁控溅射法更
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真空退火炉设备温控要求的操控输出
2022-11-07
真空退火炉设备加热功率会受各种要素的影响,例如真空炉加热功率的复校跟着炉子运用时间的变长,隔热屏的热阻会变小,电热元件蒸发而电阻变大等要素的影响,应适当添加功率。隔热屏的修理隔热屏在真空炉中起隔热、保温作用,有时也作为固定加热器的结构根底。
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真空退火炉设备的日常维护
2022-11-04
真空退火炉设备的日常维护内容:1、操作人员在维修之前要熟悉电炉及其辅助设备的结构和性能,配电系统、控制系统的布置及安全装置的位置,操作工艺和安全操作规程。2、日常使用台车炉设备时要检查设备的电源是否正常,是否有断电、短路或裸线等情况,定期检
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运用磁控溅射镀膜仪对环境有什么要求吗
2022-11-03
运用磁控溅射镀膜仪对环境有什么要求吗?由于要在特定条件下,因而磁控溅射镀膜仪要满意真空对环境的要求。拟定的各种磁控溅射镀膜仪的行业规范(包括磁控溅射镀膜仪通用技能条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明
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磁控溅射设备怎么提高使用效率
2022-11-02
在使用磁控溅射设备的时候,使用通常的溅射方法,发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率,加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢?这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射设备镀膜优
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磁控溅射设备的工艺流程
2022-11-01
在磁控溅射设备使用过程中,具体工艺过程对薄膜性能影响很大,主要工艺流程如下:(1)基片清洗,主要是用异丙醇蒸汽清洗,随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干,以去除表面油污;(2)抽真空,真空须控制在2×104Pa以上,以保证薄膜的纯度;(
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