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分类：温控电源

磁控溅射包含许多种类

2022-10-26

磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶

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真空退火炉设备的注意事项

2022-09-22

真空退火炉设备主要适用于不锈钢拉深件如水暖器材、水胀件、销、医疗器械、不锈钢钉、不锈钢镙丝、压铆件、不锈钢轴承、表壳、表带、刀具、微型轴、自攻自钻、餐具等不锈钢制品在保护气氛控制下进行连续光亮退火、固溶、退磁及不锈钢淬火处理的多用炉。真空退

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磁控溅射镀膜仪在颗粒状表面运行是否可行

2022-09-22

随着科技的发展，使用磁控溅射镀膜仪对颗粒状物体镀膜已经不再是一件难事。特别是在颗粒状金属物体表面使用镀膜技术已经相当成熟。这是应为颗粒物体表面积能都比较大，其之间能够容易进行团聚，曲率半径却是小的，因此在颗粒状物体表面上使用磁控虽然可行，但

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磁控溅射设备在工业方面的应用

2022-08-18

当磁控溅射设备入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度

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磁控溅射镀膜仪常见故障及解决办法

2022-08-18

磁控溅射是物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢？磁控溅

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磁控溅射的作业原理

2022-07-26

磁控溅射的作业原理是指电子在电场E的效果下，在飞向基片进程中与氩原子发生磕碰，使其电离发生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场效果下加速飞向阴靶，并以高能量炮击靶外表，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子堆积在

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