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多弧靶技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和
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多弧靶技术领域本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和
