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热丝CVD设备研发设施在公司实验室内配置了具有高度安全性的监测系统用于监控和处理各类危险有毒气体,比如硅烷等。(1)大面积团簇型薄膜沉积系统:最大衬底面积可达30厘米×40厘米,具有6个PECVD腔室(配有射频,甚高频电源以及具有脉冲