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分类：真空退火炉设备

真空退火炉设备的操作规程

2020-11-17

真空退火炉设备的操作规程1、真空退火炉设备工作前查验“交接班记录”。a.检查炉膛清洁状况，并清扫氧化铁皮。b.检查炉门开启机构的轮轴与滑轨的润滑情况。c.检查炉衬、电阻丝和热电偶引出棒的安装紧固情况，检查仪表是否正常。d.检查炉底电阻丝、炉

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真空退火炉设备的使用范围

2020-11-10

真空退火炉设备的使用范围：真空退火炉是标准节能型周期式作业炉，主要适用于特钢、高速钢、合金钢、紧固件、铜材、铜棒、铜管、电线电缆、焊丝、拉丝、铝丝、环保设备、机械配套企业、军工等行业的热处理车间加热用。温度要求：真空退火炉由高温、中温、低

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如何为CVD设备选型？

2020-11-10

如何为CVD设备选型？CVD是化学气相沉积的简称，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，理论上即：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。所以普通CVD实

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CVD设备的特点

2020-11-03

CVD设备的特点1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较

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CVD设备的应用

2020-11-03

化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶

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磁控溅射设备的工作原理

2020-10-27

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。磁控溅射设备的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子

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