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分类：真空退火炉设备

磁控溅射设备的电磁场模拟

2020-12-14

相对准确的电磁场设计是对溅射过程中的电磁场进行模拟，而不是只对未工作时的磁控溅射设备进行电磁场模拟。电源的选择：“电源”的选择应根据不同的工艺过程确定，常见的有直流电源、中频电源、射频电源及能够实现多种供电模式的混合型电源等。材料的选择：对

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磁控溅射设备

2020-12-14

磁控溅射设备真空系统设计是一个相对成熟的设计部分，主要包括下面四个部分：(1)室体结构——由系统工作方式设定其设计形式。真空室可设计为单室，多室和生产线等形式，并可以选择诸如连续、半连续等生产方式。对于生产平板基片的室体来说，应该进行强度、

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CVD设备化学全相沉积的特点

2020-12-07

CVD设备化学全相沉积的特点化学气相沉积工艺是将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛(真空度≤1Pa)中，使气体与模具表面发生反应，在模具表面上生成一层薄的固相沉积物，如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素。一是作为初始混合气体气

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常见的CVD设备技术

2020-12-07

化学气相沉积(CVD设备)是硬质合金领域的一个重要技术突破，它借助一种或几种含有涂层元素的化合物或单质气体在放置有基材的反应室里的气相作用或在基材表面的化学反应而形成涂层，常见的CVD设备技术是以含C/N的有机物乙氰(CH3CN)作为主要反

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真空退火炉设备的适用范围

2020-11-30

罩式光亮真空退火炉设备主要特点1.材料整个退火工艺过程都置于保护气氛中,经退火的工件表面光亮无氧化,材料表面不脱碳氧化。　　2.由于炉内保护气由特殊风机强对流循环,炉温均匀,使炉内温差控制在5℃以内；从而有效保证炉内所有退火材料软硬一致，便

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真空退火炉设备的燃烧系统管路改造

2020-11-30

在运行过程中，为了使内罩保持一定压力，即高于常压以上，炉内压力实行自动控制。如果炉内压力降到安全临界值以下，氮气管线上的自动阀（常开）就打开，而排放管线上的阀关闭。工作负荷空间的压力就会随着氮气的冲入而上升，同时对保护气氛的流量和压力进行检

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