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分类：真空退火炉设备

CVD设备的特点

2020-11-03

CVD设备的特点1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较

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CVD设备的应用

2020-11-03

化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶

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磁控溅射设备的工作原理

2020-10-27

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。磁控溅射设备的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子

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磁控溅射设备的环保特性

2020-10-20

磁控溅射设备能够有效的提高产品的质量，特别是使用在一些金属材质上的时候，其不仅能够让其具备绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。在目前的市场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该设备是对

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磁控溅射设备的前景如何？

2020-10-20

磁控溅射设备作为目前镀膜工业中不可缺少的设备之一，其作用意义重大。目前很多汽车镀膜产品都使用这种设备，可以说是深受广大用户的青睐。那么磁控溅射系统设备的亮点有哪些呢？磁控溅射系统设备市场前景如何我们知道当高速电子对不锈钢、钛、镍、金、银、铜

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磁控溅射设备的类型

2020-10-12

磁控溅射系统的工作原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，并使它们电离产生Ar正离子和新电子。Ar离子在电场的作用下加速到阴极靶，并以高能轰击靶表面，从而使靶材料溅射。磁控溅射设备厂家带您了解更多信息！磁

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