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真空退火炉设备
磁控溅射设备的用途
2020-10-12
磁控溅射设备系统的主要用途（1）各种功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。例如，在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。（2）在装饰领域的应用，例如各种全反射膜和半透明膜，例如手机壳，鼠标等。（3）作为
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真空退火炉设备的选购技巧
2020-09-30
随着社会的发展，人们对产品的要求开始精益求精。作为基础的工序，对热处理的精度要求也越来越重视，真空热处理的发展慢慢的走进了人们的视线，开始对真空热处理的重要性有了更直观的了解，因此，真空炉行业得到了充分的发展环境，也开始被更多的人去关注。真
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