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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射
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磁控溅射设备
磁控溅射设备中评沟通磁控溅射可用在单个阴极靶体系中
2021-12-11
磁控溅射设备是利用磁场束缚电子的运动,进步电子的离化率.与传统溅射相比具有"低温(磕碰次数的添加,电子的能量逐渐下降,在能量耗尽以后才落在阳极)"、"高速(增长电子运动路径,进步离化率,电离出更多的炮击靶材的离
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磁控溅射设备工作进程
2021-12-10
磁控溅射设备随着磕碰次数的添加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶外表,并在电场E的作用下终沉积在基片上。因为该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的磕碰进程。入射粒子在靶中阅历复杂的散射进程,和靶
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真空退火炉设备炉体外壳选用优质钢板滚筒焊接制造
2021-12-09
真空退火炉设备气冷体系有大功率高速电机、大风量高压叶轮、蜗壳及导流板、铜管铜串片换热器和导流设备等组成,可实现气流有换热器-风机-导流设备-工件-换热器的高速循环,以使工件得到快速均匀的冷却。加热室也可以选用全金属结构。电控体系选用PLC与
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磁控溅射设备镀膜原理
2021-12-09
磁控溅射设备镀膜原理磁控溅射设备镀膜技术分很多种,有直流磁控溅射,中频磁控溅射,射频磁控溅射,镀的基材和膜层不一样,才用的原理不一样,选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但设备的要
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真空退火炉设备彻底消除了加热过程中工件表面的氧化,脱碳
2021-12-08
真空退火炉设备彻底消除了加热过程中工件表面的氧化、脱碳,可获得无变质层的清洁表面。这对于那些在刃磨时仅磨一面的刀具(如麻花钻磨削后使沟槽表面的脱碳层直接暴露于刃口)切削性能的改善关系大。对环境无污染,不需进行三废处理。&nbs
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真空退火炉设备不得有杂物,尘埃,油污,水等
2021-12-05
真空退火炉设备因停电而超温损坏密封圈。真空炉的循环水系统制止断水!冷却水的压力须依照额外压力设备冷却水进口处压力:0.15~0.3MPa、流量约30m3/h。进水温度≤32℃、推荐用户主水泵配扬程约50m,流量约30m3/h。需要水池及冷却
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