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分类：磁控溅射设备

磁控溅射设备满足顾客的个性化需求

2021-11-26

磁控溅射设备协作NCVM工艺，能够完成关于陶瓷电子消费品的外表装修处理，在确保陶瓷强度和硬度的一起，也能够提高其漂亮性和艺术性，更好地满足顾客的个性化需求。NCVM镀膜主要是在真空条件下，通过相应的物理化学手法来对金属材料进行转换，以粒子的

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建立磁控溅射设备镀膜综合设计系统是势在必行的

2021-11-25

建立磁控溅射设备镀膜综合设计系统是势在必行的。系统的建立可按照由整体综合设计展开到部分设计，然后，再由部分设计逐步深入到整体综合设计，即“整体到部分，再到整体”这一动态设计理念，不断完善设计系统。将溅射镀膜所涉及的重要因素列举出来，找出它们

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磁控溅射设备可以在较低的溅射电压和气压下工作

2021-11-24

磁控溅射设备溅射绝缘子似乎很容易，但实际操作却很困难。主要问题是该反应不仅发生在零件的表面上，而且发生在阳极，真空腔的表面和目标源的表面上，这会导致灭火，目标源和表面起弧工件。德国莱比锡发明的双靶技术很好地解决了这个问题。原理是一对

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磁控溅射设备小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源

2021-11-23

磁控溅射设备靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装修膜。磁控阴极依照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态磁控阴极和非平衡态磁控阴极。平衡态磁控阴极表里磁钢

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磁控溅射设备镀膜体系开展至今,在工业方面显的极为重要

2021-11-22

磁控溅射设备是目前汽车玻璃膜制造中的技术，与前期或现在一些劣质车膜生产商仍在选用的染色与镀铝复合方法来生产窗膜的工艺有着本质的不同。在上世纪八十年代初，在全球首先选用真空磁控溅射工艺商业化生产窗膜。磁控溅射镀膜设备是一种复杂的设备，其不仅要

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磁控溅射设备在装修领域的应用

2021-11-21

当磁控溅射设备入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度

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磁控溅射设备可以在较低的溅射电压和气压下工作

磁控溅射设备小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源

磁控溅射设备镀膜体系开展至今,在工业方面显的极为重要

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