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分类：磁控溅射设备

磁控溅射技术的性能

2023-01-12

磁控溅射技术相关于其他成膜技术具有无法比拟的优异功用,比如沉积速度快、温度低、环保等优异的功用,因此该技术得到了广泛的运用,可是磁控溅射技术制备特定功用纺织品对基材有必定的选择性,另外,制备的纺织品的安稳性还有待进步。因此,本工作将磁控溅射

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磁控溅射的生产原理

2023-01-11

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的效果下，在飞向基片进程中与氩原子发生磕碰，使其电离发生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场效果下加速飞向阴靶，并以高能量炮击靶外表，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在

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磁控溅射的优点和缺点

2022-12-29

磁控溅射的优点1、沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小；2、对于大部分材料，只要能制成耙材，就可以实现溅射；3、溅射所获得的薄膜与基片结合较好；4、溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；5、溅射工艺可重复性好，可以在

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直流磁控溅射技术和磁控溅射设备的首要用途

2022-12-26

直流磁控溅射技术为了处理阴溅射的缺点，人们在20世纪70年代开发出了直流磁控溅射技术，它有用地克服了阴溅射速率低和电子使基片温度升高的缺点，因此获得了迅速发展和广泛使用。其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中遭到洛仑兹力，它们的运动轨

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磁控溅射镀膜设备介绍

2022-12-07

溅射镀膜溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子炮击靶外表，使被炮击出的粒子堆积在基片上的技能。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴靶由镀膜材料制成，基片作为阳，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴（靶）1-3KV直流

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磁控溅射的开展进程

2022-11-30

磁控溅射的开展进程：溅射堆积是在真空环境下，使用等离子体中的荷能离子炮击靶材表面，使靶材上的原子或离子被炮击出来，被炮击出的粒子堆积在基体表面生长成薄膜。溅射堆积技能的开展进程中有几个具有重要意义的技能创新使用，现在归结如下：（1）二级溅射

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