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分类：磁控溅射设备

运用磁控溅射镀膜仪对环境有什么要求吗

2022-11-03

运用磁控溅射镀膜仪对环境有什么要求吗？由于要在特定条件下，因而磁控溅射镀膜仪要满意真空对环境的要求。拟定的各种磁控溅射镀膜仪的行业规范(包括磁控溅射镀膜仪通用技能条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明

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磁控溅射设备怎么提高使用效率

2022-11-02

在使用磁控溅射设备的时候，使用通常的溅射方法，发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率，加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射设备镀膜优

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磁控溅射设备的工艺流程

2022-11-01

在磁控溅射设备使用过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（

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磁控溅射镀膜技术

2022-10-27

溅射镀膜就是在真空中使用荷能粒子轰击靶外表，使被轰击出的粒子堆积在基片上的技术。一般，使用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴靶由镀膜资料制成，基片作为阳，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴（靶）1-3KV直流负高压或

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磁控溅射包含许多种类

2022-10-26

磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶

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磁控溅射镀膜仪在颗粒状表面运行是否可行

2022-09-22

随着科技的发展，使用磁控溅射镀膜仪对颗粒状物体镀膜已经不再是一件难事。特别是在颗粒状金属物体表面使用镀膜技术已经相当成熟。这是应为颗粒物体表面积能都比较大，其之间能够容易进行团聚，曲率半径却是小的，因此在颗粒状物体表面上使用磁控虽然可行，但

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