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磁控溅射原理和材料性能
2022-11-23
磁控溅射原理：电子在电场的效果下加速飞向基片的过程中与氩原子发生磕碰，电离出很多的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的效果下加速轰击靶材，溅射出很多的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中遭
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磁控溅射介绍和用途
2022-11-08
磁控溅射是物理气相堆积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多资料，且具有设备简略、易于控制、镀膜面积大和附着力强等长处。上世纪70时代发展起来的磁控溅射法更
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磁控溅射包含许多种类
2022-10-26
磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶
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磁控溅射的作业原理
2022-07-26
磁控溅射的作业原理是指电子在电场E的效果下，在飞向基片进程中与氩原子发生磕碰，使其电离发生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场效果下加速飞向阴靶，并以高能量炮击靶外表，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子堆积在
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了解一下磁控溅射设备的工作原理
2022-05-06
了解一下磁控溅射设备的工作原理磁控溅射设备用磁控靶源溅射金属和合金很简单，点火和溅射很便利。这是由于靶（阴极），等离子体和被溅零件/真空腔体可构成回路。但若溅射绝缘体（如陶瓷），则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容，这样在
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磁控溅射设备的实际操作很难
2022-05-06
磁控溅射设备的实际操作很难磁控溅射设备溅射绝缘子好像很容易，但实际操作却很困难。主要问题是该反响不只发生在零件的外表上，而且发生在阳，真空腔的外表和方针源的外表上，这会导致救活，方针源和外表起弧工件。德国莱比锡发明的双靶技术很好地处理
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