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分类：磁控溅射设备

CVD设备系统的适用领域

2021-02-26

CVD设备系统适用领域：CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域

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带您了解真空退火炉设备

2021-01-29

真空退火炉设备主要适用于黑色和有色金属的线带材和管料，机械零件，电子元件，工模量具的光亮退火和回火处理。处理后产品表面光洁，不氧化，不脱碳。全纤维台车式回火炉主要供一般大、中型金属或合金机件在额定温度下热处理之用本系列电炉外壳有钢板和型钢焊

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真空退火炉设备的组成

2021-01-19

真空退火炉设备的组成该炉主要由炉罩、炉罩驱动机构、节能型全纤维耐火炉衬、高温高辐射电热元件、软密封锁紧机构、炉台、炉台导电电极箱、智能PID温度程序控制系统等主要部分组成。1．炉罩壳体：主要采用优质国标型钢骨架及钢板焊接而成，保证了炉子的密

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真空退火炉设备的骨架由型钢焊接而成

2021-01-13

真空退火炉设备的骨架由各种型钢焊接而成，外框用槽钢作主梁，围板采用冷薄板，台车退火炉用槽钢作主梁，底板及前后端板采用中板。　真空退火炉传动部分：台车传动采用电动机、减速机通过链条带动前端一组主动轮传动。炉门传动是采用蜗轮减速机和电动机组

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CVD设备的沉积制法

2021-01-06

CVD设备制法是将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中其覆膜厚度一般为6~10μm。CVD法具有如下特点：可在大气或低于大气压下进行沉积金属、合

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磁控溅射设备在工业中有哪些优势

2020-12-21

磁控溅射设备开展至今，在工业方面显的极为重要，其作用范围广泛，完全的改动了传统的镀膜行业。使得镀膜作业在出产质量方面以及功率方面都得到了较大的提高。那么磁控溅射镀膜设备在工业中有什么优势呢？磁控溅射镀膜设备溅射方法磁控溅射镀膜设备主要有一下

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真空退火炉设备的组成

真空退火炉设备的骨架由型钢焊接而成

CVD设备的沉积制法

磁控溅射设备在工业中有哪些优势

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