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分类：磁控溅射设备

磁控溅射设备镀膜原理

2021-12-09

磁控溅射设备镀膜原理磁控溅射设备镀膜技术分很多种，有直流磁控溅射，中频磁控溅射，射频磁控溅射，镀的基材和膜层不一样，才用的原理不一样，选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但设备的要

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真空退火炉设备彻底消除了加热过程中工件表面的氧化,脱碳

2021-12-08

真空退火炉设备彻底消除了加热过程中工件表面的氧化、脱碳，可获得无变质层的清洁表面。这对于那些在刃磨时仅磨一面的刀具（如麻花钻磨削后使沟槽表面的脱碳层直接暴露于刃口）切削性能的改善关系大。对环境无污染，不需进行三废处理。&nbs

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真空退火炉设备不得有杂物,尘埃,油污,水等

2021-12-05

真空退火炉设备因停电而超温损坏密封圈。真空炉的循环水系统制止断水!冷却水的压力须依照额外压力设备冷却水进口处压力：0.15～0.3MPa、流量约30m3/h。进水温度≤32℃、推荐用户主水泵配扬程约50m,流量约30m3/h。需要水池及冷却

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磁控溅射设备原理是入射粒子和靶的磕碰进程

2021-12-04

磁控溅射设备在光学范畴：IF关闭场非平衡磁控溅射技术也已应用于光学薄膜（例如抗反射涂层），低辐射率玻璃和通明导电玻璃中。特别地，通明导电玻璃现在广泛地用于平板显示设备，太阳能电池，微波和射频屏蔽设备和设备以及传感器中。在机械加工工业中，自

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真空退火炉设备升温后,不能长期敞开炉门

2021-12-03

真空退火炉设备升温后，不能长期敞开炉门。当温度高于400℃时，不得急剧冷却。对于电热元件在温度高、冷热改变大情况下，容易引起氧化掉皮。对于钼加热炉，EI常运用维护中留意应冷却至200℃以下方可停送维护气。引出棒与线夹子应接触杰出，引出棒与

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真空退火炉设备是规范节能型周期式作业炉

2021-12-02

真空退火炉设备由炉门、炉门提高组织和炉门压紧设备组成。炉门壳体由型钢与板材焊接而成牢固框架结构，内用　耐火纤维压制模块叠铺而成，要求保温性能好，重量轻等。炉门的提高设备选用电动设备，主要由炉门架、炉门　提高横梁、减速机、链轮、传动轴和轴承等

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磁控溅射设备镀膜原理

真空退火炉设备彻底消除了加热过程中工件表面的氧化,脱碳

真空退火炉设备不得有杂物,尘埃,油污,水等

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真空退火炉设备升温后,不能长期敞开炉门

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