鸿晟首页
关于鸿晟
公司简介
联系我们
荣誉资质
产品中心
CVD设备
磁控溅射设备
真空退火炉设备
镀膜设备
退火设备
真空部件
真空电源
真空涂层设备
温度系数测控设备
温控电源
新闻中心
公司动态
行业资讯
技术支持
联系鸿晟
联系方式
客户留言
留言中心
登 录
全站搜索
磁控溅射镀膜仪
磁控溅射设备
CVD设备
鸿晟首页
关于鸿晟
公司简介
联系我们
荣誉资质
产品中心
CVD设备
磁控溅射设备
真空退火炉设备
镀膜设备
退火设备
真空部件
真空电源
真空涂层设备
温度系数测控设备
温控电源
新闻中心
公司动态
行业资讯
技术支持
联系鸿晟
联系方式
客户留言
留言中心
您当前的位置 ：
首 页
> 标签搜索
产品（1）
新闻（23）
当前标签：
磁控溅射设备价格
磁控溅射设备价格
为你详细介绍
磁控溅射设备价格
的产品分类,包括
磁控溅射设备价格
下的所有产品的用途、型号、范围、图片、新闻及价格。同时我们还为您精选了
磁控溅射设备价格
分类的行业资讯、价格行情、展会信息、图片资料等，在全国地区获得用户好评，欲了解更多详细信息,请点击访问!
磁控溅射设备怎样提高沉积速率
2022-11-11
磁控溅射设备提高沉积速率的原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速
了解详情 +
磁控溅射设备的常见问题如何解决
2022-11-09
磁控溅射设备是一种物理气相沉积(PVD)工艺，是制造半导体、磁盘驱动器、CD和光学器件的主要薄膜沉积方法。以下是磁控溅射设备中常见的问题。我们列出了可能的原因和相关解决方案。一，底片暗黑或发黑真空度小于0.67Pa-真空度应提高到
了解详情 +
磁控溅射设备怎么提高使用效率
2022-11-02
在使用磁控溅射设备的时候，使用通常的溅射方法，发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率，加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射设备镀膜优
了解详情 +
磁控溅射设备的工艺流程
2022-11-01
在磁控溅射设备使用过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（
了解详情 +
磁控溅射设备在工业方面的应用
2022-08-18
当磁控溅射设备入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度
了解详情 +
磁控溅射设备镀膜原理
2021-12-09
磁控溅射设备镀膜原理磁控溅射设备镀膜技术分很多种，有直流磁控溅射，中频磁控溅射，射频磁控溅射，镀的基材和膜层不一样，才用的原理不一样，选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但设备的要
了解详情 +
首页
1
2
3
4
1/4
下一页
尾页
第1页
第2页
第3页
第4页
推荐产品
磁控溅射设备
关于我们
公司简介
联系我们
荣誉资质
产品中心
CVD设备
磁控溅射设备
真空退火炉设备
镀膜设备
退火设备
真空部件
真空电源
真空涂层设备
温度系数测控设备
温控电源
新闻中心
公司动态
行业资讯
联系鸿晟
联系方式
客户留言
扫一扫
企业分站
|
网站地图
|
RSS
|
XML
15998139647
在线留言
