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磁控溅射设备厂家
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磁控溅射设备的不同型号的区别在哪里？
2023-05-05
磁控溅射设备是一种常见的表面处理设备，它能够在物体表面形成一层薄膜，起到保护、美化、改善表面性能等作用。磁控溅射设备通常有多个不同型号，这些型号之间有着一定的区别。在本篇文章中，我们将就磁控溅射设备不同型号的区别进行分析。首先，磁控溅射设备
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磁控溅射设备的原理和工作流程如何？
2023-04-17
磁控溅射是一种材料表面处理技术，通过使用高能量粒子进行材料表面处理，从而改善材料表面的物理和化学特性。这种技术被广泛应用于各种工业和科学领域，如信息技术、制造业、能源等。磁控溅射设备的原理磁控溅射的原理基于电弧放电和离子轰击。该过程涉及到在
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磁控溅射设备的故障现象及处理方法
2023-03-30
磁控溅射设备在使用过程中，可能会发生各种故障现象，这些故障会给磁控溅射设备的正常运行带来很大的影响，甚至可能导致设备关闭使用。下面将分别介绍磁控溅射设备的故障现象及处理方法。1、磁控溅射设备出现电源故障电源故障是磁控溅射设备常见的故障之一。
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磁控溅射设备的分类都有哪些？
2023-03-24
磁控溅射（MagnetronSputtering）是一种强制性表面涂层技术，广泛应用于电子、光电、航空航天、化工、制药等领域的工业生产中。它是将固体样本或者靶材溅射到样品表面，形成涂层或薄膜。对于空间和时间的要求非常高，需要使用高纯度材料
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磁控溅射设备怎样提高沉积速率
2022-11-11
磁控溅射设备提高沉积速率的原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速
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磁控溅射设备的常见问题如何解决
2022-11-09
磁控溅射设备是一种物理气相沉积(PVD)工艺，是制造半导体、磁盘驱动器、CD和光学器件的主要薄膜沉积方法。以下是磁控溅射设备中常见的问题。我们列出了可能的原因和相关解决方案。一，底片暗黑或发黑真空度小于0.67Pa-真空度应提高到
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