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磁控溅射设备怎么提高使用效率
2022-11-02
在使用磁控溅射设备的时候，使用通常的溅射方法，发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率，加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射设备镀膜优
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磁控溅射设备的工艺流程
2022-11-01
在磁控溅射设备使用过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（
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磁控溅射设备在工业方面的应用
2022-08-18
当磁控溅射设备入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度
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磁控溅射设备镀膜原理
2021-12-09
磁控溅射设备镀膜原理磁控溅射设备镀膜技术分很多种，有直流磁控溅射，中频磁控溅射，射频磁控溅射，镀的基材和膜层不一样，才用的原理不一样，选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但设备的要
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主要的磁控溅射系统方式有哪些？
2020-07-17
磁控溅射系统设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材，目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产，那么大家知道目前的磁控溅射系统设备主要的溅射方式有哪几种么？下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。磁控溅射镀
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